Vesinikkloriidhape{0}}töödeldud ränidioksiid patareide eraldajate jaoks

Sadestunud ränidioksiid saadakse naatriumsilikaadi (vesiklaasi) hapestamisel. Kui hapestava ainena kasutatakse vesinikkloriidhapet (HCl), pakub saadud ränidioksiid tavaliselt kõrgemat pesemistõhusust, vähem metallijääkide lisandeid, ühtlasemat pinnakeemiat ja paremat pH stabiilsust võrreldes mõne muu happemeetodiga. Tootmisjärjestus-hapestamine, sademete kontroll, filtreerimine ja mitmekordne pesemine, seejärel kuivatamine ja klassifitseerimine-võimaldab täpselt kontrollida osakeste suurust, pindala ja lisandite taset.

3.1 Ehitab iooni-, mis juhib "kiirteed": kõrge poorsus ja kontrollitud pooride struktuur

Räniosakesed moodustavad stabiilse 3D mikropoorse võrgu, mis suurendab üldist poorsust ja loob omavahel ühendatud kanalid ioonide transpordiks. See arhitektuur vähendab sisemist takistust ja suurendab kiiret-laadimist ja suure-tühjenemise jõudlust.

3.2 Erakordne elektrolüütide märguvus ja vedelikupeetus

Ränidioksiidi pindadel olevad rohked –OH (silanool) rühmad tõmbavad ligi polaarseid elektrolüütide komponente (EC, EMC, DEC), võimaldades kiiret märgumist, elektrolüütide ühtlast jaotumist ja tugevat vedeliku omastamist, mis on pika tsükli eluea ja stabiilse SEI moodustumise jaoks hädavajalik.

3.3 Suurepärane termiline stabiilsus: turvaline tulemüür

Räni anorgaaniline olemus ja kõrge soojustakistus toimivad polüolefiinkilede kohal jäiga karkassina, hoides ära tugeva kokkutõmbumise või sulamise termiliste sündmuste ajal ning vähendades sisemiste lühiste ja termilise äravoolu ohtu.

3.4 Mehaaniline tugevdus punktsioonide ja dendriitide vastu

Ühtlaselt hajutatud ränidioksiid suurendab torkekindlust ja tõmbetugevust, kaitstes eraldajaid füüsiliste kahjustuste eest kerimise, virnastamise ja jalgrattaga sõitmise ajal.

JK SILICA on funktsionaalsete ränidioksiidmaterjalide spetsialiseerunud tootja, kellel on tootmis- ja uurimis- ja arendustegevuse võimalused

Ülim puhtus:täiustatud pesemine ja puhastamine, suletud automatiseeritud tootmine ja range tooraine kontroll.

Tooteseeria ja kohandamine:mitu BET-taset, D50 valikud ja pinna muutmise teenused katmisprotsesside sobitamiseks.

Tehniline tugi ja tarnevõime:rakendustehnoloogia läga valmistamiseks,{0}}kohapealne tõrkeotsing ja stabiilne masstootmise tarne.

Küsige JK SILICA tehnilisi andmeid ja näidiseid

Q:Kas ränidioksiid võib kiiret{0}}laadimist parandada?

V: Jah-luues madala-takistusega iooniradu ja parandades elektrolüütide ligipääsetavust, toetavad ränidioksiidi{2}}põhised katted täiustatud kiiret-laadimist.

 

Q: Millised sideained sobivad ränidioksiidiga?

V: Levinud sideainete hulka kuuluvad PVDF, PAA, CMC, SBR ja hübriidsüsteemid; sideaine valik sõltub katte lahustist ja kuivatusstrateegiast.

 

Q:Kuidas ränidioksiid parandab soojusohutust?

V: Keraamiline kate toimib jäiga karkassina, mis vähendab PE/PP substraadi kokkutõmbumist termiliste sündmuste ajal, vähendades sellega lühise{0}}riski.

 

Q:Mis on tüüpiline ränidioksiidi eraldajakatte D50?

V: D50 on tavaliselt vahemikus 0,5 kuni 2,5 μm, sõltuvalt disaini- ja töötlemisvajadustest.

 

Q:Vesinikkloriidhape-töödeldud vs väävelhape-töödeldud ränidioksiid

V: Kuigi mõlemad tooted on sadestunud ränidioksiid, mõjutab happe valik oluliselt lõppomadusi:

Puhtuse ja lisandi tasemed:HCl{0}}tee hõlbustab sügavamat pesemist ja ioonsete jääkide tõhusamat eemaldamist, võimaldades Fe, Cu, Na ja teiste metallide taseme reguleerimist ppm või sub{1}}ppm tasemele.

Katte ühilduvus:HCl{0}}tuletatud ränidioksiid annab tavaliselt parema dispersiooni stabiilsuse ja ühtlasemad silanooli pinnarühmad-ühtlaste keraamiliste kattekihtide jaoks.

pH stabiilsus:Kitsam pH kõikumine on kasulik sideainesüsteemidele, nagu PAA, CMC ja PVDF.

 

Toote spetsifikatsioonide, tehniliste andmete lehtede või näidiste saamiseks võtke ühendust JK SILICAga.
Meie insenerimeeskond on valmis toetama teie separaatori arendamist ja aitama teil avada aku paremat jõudlust.

Võtke kohe ühendust